导电膜及其制作方法
基本信息
| 申请号 | CN202010064402.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113140352A | 公开（公告）日 | 2021-07-20 |
| 申请公布号 | CN113140352A | 申请公布日 | 2021-07-20 |
| 分类号 | H01B5/14（2006.01）I;H01B13/00（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 基亮亮;周小红;刘麟跃 | 申请（专利权）人 | 苏州维业达科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海波拓知识产权代理有限公司 | 代理人 | 蔡光仟 |
| 地址 | 215026江苏省苏州市苏州工业园区新昌路68号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种导电膜的制作方法，包括在导电衬底上形成第一胶层，在第一胶层上制作图案化的多个穿孔，以使导电衬底由穿孔露出，采用金属生长的方式将导电材料填充到穿孔中，以形成生长在导电衬底上的图案化的导电层，提供基底，在基底上形成第二胶层，利用第二胶层转移导电层和第一胶层，以使导电层与第一胶层设置在第二胶层上，去除导电衬底。本发明的导电膜的制作方法通过采用电沉积的方式使导电材料沉积在导电衬底上，以此得到表面平整度高的导电层，满足电极产品的性能需求，扩展了应用领域。 |
