一种导电膜的修补方法

基本信息

申请号 CN202010015177.4 申请日 -
公开(公告)号 CN113151813A 公开(公告)日 2021-07-23
申请公布号 CN113151813A 申请公布日 2021-07-23
分类号 C23C18/40(2006.01)I;C23C18/28(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 刘麟跃;基亮亮;周小红 申请(专利权)人 苏州维业达科技有限公司
代理机构 上海波拓知识产权代理有限公司 代理人 蔡光仟
地址 215026江苏省苏州市苏州工业园区新昌路68号
法律状态 -

摘要

摘要 一种导电膜的修补方法,包括以下步骤:提供一待修补的导电膜,该导电膜包括基膜、位于基膜上的结构层和导电网格,结构层设有图形凹槽,导电网格由金属材料填充在图形凹槽中制作形成;对导电膜进行敏化处理;将敏化处理后的导电膜置于化学铜镀液中;在搅拌条件下加入还原液;静置,在导电网格表面形成沉积铜层,沉积铜层还填充在导电网格中断路不良的间隙处。本发明通过对导电膜的表面进行敏化和化学铜镀,过程中导电网格中的银或金起到催化作用,导电网格附近具有较高的还原反应速率,可以对导电网格的断路不良进行批量修补,成功率高,效率高,可实现自动化修补。