一种带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备及镀膜方法
基本信息
| 申请号 | CN201810158684.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108277468B | 公开（公告）日 | 2019-11-12 |
| 申请公布号 | CN108277468B | 申请公布日 | 2019-11-12 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I; C23C14/50（2006.01）I; C23C14/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 孙宝玉; 陈晓东; 杨威力; 段永利 | 申请（专利权）人 | 沈阳中北真空技术有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 110168 辽宁省沈阳市浑南区汇泉东路8-1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备和镀膜方法，该设备包括真空镀膜室、真空机械臂室、磁控溅射靶组件、立式旋转鼓，在真空镀膜室侧壁上设置有与真空机械臂室连接的接口。立式旋转鼓绕垂直轴线旋转，其中心设置有密封箱。多组磁控溅射靶设置在立式旋转鼓外围的真空镀膜室侧壁上。真空机械臂室内设置有真空机械臂，在真空状态下水平和竖直移动。镀膜方法包括对镀膜设备抽真空，转动立式旋转鼓达到设定的转速，启动射频离子源，按工艺要求交替镀制两种材料的膜层，还包括采用真空机械臂将装有基片的基板装卡到立式旋转鼓上以及将镀膜后的基板从立式旋转鼓上取下。 |
