半导体衬底研磨抛光中蜡回收再利用的方法
基本信息
| 申请号 | CN201811549877.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109722220B | 公开（公告）日 | 2020-11-10 |
| 申请公布号 | CN109722220B | 申请公布日 | 2020-11-10 |
| 分类号 | C09J191/06;C09J11/04;C09J11/06 | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 张泽芳;巩强 | 申请（专利权）人 | 上海映智研磨材料有限公司 |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 张新鑫;许亦琳 |
| 地址 | 201799 上海市青浦区青安路958、968号4幢3层S区329室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种半导体衬底研磨抛光中蜡回收再利用的方法，所述方法主要包括：去除回收蜡中的杂质以及配置新蜡。本方法通用性强，可以针对不同原料组成的回收蜡实施，成本低，回收利用率可以达到80％以上，制得新蜡可以与市购蜡具有相当的性能。 |
