一种用于气相沉积机的侦测装置及气相沉积机
基本信息
| 申请号 | CN202022713547.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214168125U | 公开（公告）日 | 2021-09-10 |
| 申请公布号 | CN214168125U | 申请公布日 | 2021-09-10 |
| 分类号 | C23C16/52（2006.01）I;C23C16/40（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 万照云;吕东生 | 申请（专利权）人 | 和舰芯片制造（苏州）股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘小峰;李红萧 |
| 地址 | 215025江苏省苏州市苏州工业园区星华街333号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于气相沉积机的侦测装置，包含：臭氧发生器，臭氧发生器设置有电流侦测器以侦测臭氧发生器的工作电流；腔室，腔室与臭氧发生器通过管路流体连通；以及控制器，控制器与电流侦测器通信连接并配置为响应于工作电流超出预定范围而提示工作人员，提示包含臭氧的浓度、流量中的至少一项异常。该侦测装置通过检测臭氧发生器的工作电流来建立卡关机制，以更有效地反映常压气相沉积机腔室内臭氧浓度和/或流量的异常。本实用新型同时提供一种包含上述侦测装置的气相沉积机。 |
