压印衬底及压印方法
基本信息
| 申请号 | CN202111366654.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114002915A | 公开（公告）日 | 2022-02-01 |
| 申请公布号 | CN114002915A | 申请公布日 | 2022-02-01 |
| 分类号 | G03F7/00（2006.01）I;G02B3/00（2006.01）I;G02B5/18（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 徐琦;张国伟;刘博;蒋超;田克汉;王淼 | 申请（专利权）人 | 北京驭光科技发展有限公司 |
| 代理机构 | 北京律和信知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 郝文博 |
| 地址 | 100083北京市海淀区知春路23号6层609室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种压印衬底，用于固定于压印设备的载物台上，压印衬底为用于制备衍射光学元件或微透镜阵列的压印衬底，压印衬底包括：功能部和稳定部，功能部用于涂覆光固化或热固化胶水，功能部具有厚度均匀的有效区和包围有效区的无效区，有效区用于作为纳米压印图形的承载区域。稳定部固定设置于功能部的无效区上，且稳定部的厚度大于功能部的厚度。本发明的实施例利用稳定部的重力抵抗胶水固化过程中的内缩应力，避免了衬底翘曲变形，提高了产品的合格率，进而为选择大尺寸超薄衬底提供了条件。同时，本发明还提供了一种压印方法，依靠前述的压印衬底进行纳米压印。 |
