一种化学气相沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN202111499889.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114086152A | 公开（公告）日 | 2022-02-25 |
| 申请公布号 | CN114086152A | 申请公布日 | 2022-02-25 |
| 分类号 | C23C16/40（2006.01）I;C23C16/44（2006.01）I;C23C16/50（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘洋;金補哲;叶新浩;厉冰峰;蔡宇航 | 申请（专利权）人 | 盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海市汇业律师事务所 | 代理人 | 王函 |
| 地址 | 315100浙江省宁波市鄞州区云龙镇石桥村 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明实施例提出一种化学气相沉积设备，所述设备包括：远程等离子体源；反应室；真空泵；用于连接该远程等离子体源和该反应室的进气管道，主清洁气体通过该进气管道从该远程等离子体源进入该反应室；用于连接该反应室和该真空泵的排气管道；该进气管道上有一支路管道，接入支路清洁气体。进一步地，该排气管道呈入口端窄，出口端宽的形状。本发明提供的改进，有效提高了吹扫进气管道内壁上的沉积物形成的污染物的效率，还提高了清洁效率，从而延长了进行预防性维护的周期，也就是增加了单位时间内设备得到有效使用的时间，因此大幅降低了生产成本。 |
