一种化学气相沉积设备

基本信息

申请号 CN202111499889.9 申请日 -
公开(公告)号 CN114086152A 公开(公告)日 2022-02-25
申请公布号 CN114086152A 申请公布日 2022-02-25
分类号 C23C16/40(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C23C16/50(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 刘洋;金補哲;叶新浩;厉冰峰;蔡宇航 申请(专利权)人 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
代理机构 上海市汇业律师事务所 代理人 王函
地址 315100浙江省宁波市鄞州区云龙镇石桥村
法律状态 -

摘要

摘要 本发明实施例提出一种化学气相沉积设备,所述设备包括:远程等离子体源;反应室;真空泵;用于连接该远程等离子体源和该反应室的进气管道,主清洁气体通过该进气管道从该远程等离子体源进入该反应室;用于连接该反应室和该真空泵的排气管道;该进气管道上有一支路管道,接入支路清洁气体。进一步地,该排气管道呈入口端窄,出口端宽的形状。本发明提供的改进,有效提高了吹扫进气管道内壁上的沉积物形成的污染物的效率,还提高了清洁效率,从而延长了进行预防性维护的周期,也就是增加了单位时间内设备得到有效使用的时间,因此大幅降低了生产成本。