晶圆旋转装置及化学气相沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN202111427199.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114141684A | 公开（公告）日 | 2022-03-04 |
| 申请公布号 | CN114141684A | 申请公布日 | 2022-03-04 |
| 分类号 | H01L21/683（2006.01）I;H01L21/687（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 王会会;刘洋;金補哲 | 申请（专利权）人 | 盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海老虎专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 葛瑛 |
| 地址 | 315100浙江省宁波市鄞州区云龙镇石桥村 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种晶圆旋转装置及化学气相沉积设备,所述包括静电吸盘、反应腔体、晶圆支撑架，所述静电吸盘通过三个提升销与晶圆支撑架连接，静电吸盘依据静电原理吸引晶圆片；所述反应腔体左侧接入反应气体管道并配有压力计，底部连接尾气管路，配有压力计，并通过节流阀连接于涡轮泵上；所述反应腔体顶部连接远程等离子体源，中间为清洁气体管路，清洁气体管路穿过陶瓷钟罩，且尾部接有喷头；所述晶圆支撑架底部与反应腔体密封连接。本发明在于不仅可以对晶圆进行升降动作，还可以通过驱动马达来对晶圆进行旋转作业，通过旋转晶圆来达到改善工艺均匀性的目的，进而提高了产品良率。 |
