一种蒸发源装置
基本信息
| 申请号 | CN202120246049.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214244592U | 公开（公告）日 | 2021-09-21 |
| 申请公布号 | CN214244592U | 申请公布日 | 2021-09-21 |
| 分类号 | C23C14/24（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 不公告发明人 | 申请（专利权）人 | 杭州纤纳光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 杭州奥创知识产权代理有限公司 | 代理人 | 杨文华 |
| 地址 | 311121浙江省杭州市余杭区仓前街道龙潭路7号B幢209室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种蒸发源装置，包括依次相互连通的进气部分、蒸发部分、出气部分和真空舱室，进气部分包括进气管道和进气阀门，蒸发部分包括前加热管道、镀膜材料加热管道、后加热管道以及金属滤网，金属滤网设置在镀膜材料加热管道中，所用镀膜材料放置在金属滤网上被加热蒸发成镀膜气体，在镀膜材料加热管道的两端分别设置连接装置与前加热管道、后加热管道实现可拆装的连通，出气部分包括出气管道和出气阀门，前加热管道的另一端与进气阀门连接，后加热管道的另一端与出气阀门连接。本实用新型解决气相传输沉积法中存在的蒸镀不均匀、材料易堆积在管道、装置复杂等问题。 |
