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一种基于激光冲击波的薄膜元件光学性能后处理方法

基本信息

申请号	CN201710088946.1	申请日	-
公开（公告）号	CN106908867A	公开（公告）日	2017-06-30
申请公布号	CN106908867A	申请公布日	2017-06-30
分类号	G02B1/12;G01N21/3563;G01N21/59	分类	光学;
发明人	刘文文;曹宇;张健;朱德华	申请（专利权）人	昆山星谕传感科技有限公司
代理机构	北京中北知识产权代理有限公司	代理人	温州大学;温州大学激光与光电智能制造研究院;温州天琴激光科技有限公司;曾欢;昆山星谕传感科技有限公司
地址	325000 浙江省温州市瓯海经济开发区东方南路38号温州市国家大学科技园孵化器
法律状态	-

摘要

本发明提供了一种基于激光冲击波的薄膜元件光学性能后处理方法，以未进行激光冲击波后处理时升温过程中薄膜元件透过率的变化特性T₀的为基准，分别获得E₀、E_m和ΔE对S次激光冲击波处理后样品升温过程中薄膜元件透过率的变化特性T_S的影响规律；根据T_S的提升情况，对初始激光能量E₀、能量递增梯度ΔE和最大激光能量E_m进行优化，当薄膜元件透过率的变化特性曲线随温度的改变不再发生变化，且对应波长的透过率或反射率满足被测样品的要求时，停止循环，完成薄膜元件光学性能后处理。本发明实现了对高功率光学薄膜元件光学性能尤其是稳定性的改善，结合实时在线调整后处理工艺参数，解决了低堆积密度薄膜的光学性能易受环境影响的难题。