一种低温共烧陶瓷基板空腔结构的制备方法

基本信息

申请号 CN201710847497.4 申请日 -
公开(公告)号 CN107591336A 公开(公告)日 2018-01-16
申请公布号 CN107591336A 申请公布日 2018-01-16
分类号 H01L21/48 分类 基本电气元件;
发明人 马名生;林琳;刘志甫;李永祥 申请(专利权)人 横店影视制作有限公司
代理机构 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 代理人 中国科学院上海硅酸盐研究所;横店集团控股有限公司;浙江矽瓷科技有限公司
地址 200050 上海市长宁区定西路1295号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明的低温共烧陶瓷基板空腔结构的制备方法,具备如下步骤:将LTCC生瓷带切割成LTCC生瓷片,然后将切割好的多片LTCC生瓷片依次进行第一阶段叠层,从而分别形成上层盖板、子层板和下层板;将子层板与下层板进行第二阶段叠层,从而形成合层板;将上层盖板和合层板进行第三阶段叠层,从而形成带有空腔结构的LTCC巴块;对LTCC巴块进行切割后得到LTCC基板素坯,然后将LTCC基板素坯进行烧结;第三阶段叠层的工艺中的叠层压力、温度和时间均小于第一和第二阶段叠层的工艺中的参数。根据本发明,极大降低了带有空腔结构的低温共烧陶瓷基板的制造成本,有利于低温共烧陶瓷基板空腔结构的批量化生产。