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一种基于微透镜阵列的图文防伪结构及其制备方法

基本信息

申请号 CN201811115548.5 申请日 -
公开（公告）号 CN109285439B 公开（公告）日 2021-07-23
申请公布号 CN109285439B 申请公布日 2021-07-23
分类号 G09F3/02（2006.01）I;G02B3/00（2006.01）I 分类 教育；密码术；显示；广告；印鉴;
发明人 杨志方;牟靖文;何亮;葛宏伟;寇倩倩 申请（专利权）人 武汉华工图像技术开发有限公司
代理机构 武汉东喻专利代理事务所（普通合伙） 代理人 李佑宏
地址 430023湖北省武汉市东湖新技术开发区大学园路
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种基于微透镜阵列的图文防伪结构，包括依次层叠设置的基材层、微图文层和背胶层，所述微图文层包括依次层叠的结构层、金属层和油墨层，结构层一侧紧邻基材层，另一侧设置有含有图文信息的凹凸结构，凹凸结构的凹陷面（凸起面）上附有铝层，油墨层紧邻凹凸结构的凸起面（凹陷面）设置，并与凹陷面（凸起面）的铝层相贴合，铝层与油墨层相互对比凸显出结构层的图文结构，形成在凹凸结构中局部镀铝的镂空效果。本发明还公开了该图文防伪结构的制备方法。本发明技术方案针对目前微图文结构印刷效果差的情况，采用两级凹凸结构设计，且采用不同的涂层对凹凸结构进行对比突出，结合微透镜阵列，有效提高了图文防伪薄膜的安全性能。