一种钛靶材晶粒细化的方法及钛靶材
基本信息
| 申请号 | CN202110758654.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113481475A | 公开（公告）日 | 2021-10-08 |
| 申请公布号 | CN113481475A | 申请公布日 | 2021-10-08 |
| 分类号 | C23C14/34（2006.01）I;B21J5/00（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;周敏 | 申请（专利权）人 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京远智汇知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王岩 |
| 地址 | 315400浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种钛靶材晶粒细化的方法及钛靶材，所述方法包括以下步骤：（1）在400‑500℃下对钛靶材进行预热；（2）将步骤（1）所得钛靶材进行三向锻造；（3）冷却步骤（2）所得钛靶材，得到晶粒尺寸为10‑20μm的钛靶材。本发明提供的方法专用于钛靶材的晶粒细化，改善了钛靶材溅射性能和溅射环境，提升了镀膜质量的同时简化了工艺流程，降低了加工成本。 |
