一种溅射靶材用高纯钼粉及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202210232753.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114713834A | 公开（公告）日 | 2022-07-08 |
| 申请公布号 | CN114713834A | 申请公布日 | 2022-07-08 |
| 分类号 | B22F9/22（2006.01）I;B22F1/14（2022.01）I;C23C14/34（2006.01）I | 分类 | 铸造；粉末冶金; |
| 发明人 | 唐鑫鑫;谢志国;杨晓青;李志翔 | 申请（专利权）人 | 自贡硬质合金有限责任公司 |
| 代理机构 | 成都睿道专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 643010四川省自贡市人民路111号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种溅射靶材用高纯钼粉的制备方法，包括如下步骤：S1、一次还原；S2、混合；S3、二次还原；S4、气流分级；S5、合批；本发明所提供的溅射靶材用高纯钼粉的制备方法，工艺简单，效率高，易于实现工业化生产。生产过程中可将原料中的杂质元素充分排出，并且避免了二次污染，制备的钼粉纯度高，颗粒尺寸均匀，费氏粒度及松装密度可根据不同的使用条件进行调节。 |
