一种半导体生产制造用光刻机
基本信息
| 申请号 | CN202121008010.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215297944U | 公开（公告）日 | 2021-12-24 |
| 申请公布号 | CN215297944U | 申请公布日 | 2021-12-24 |
| 分类号 | G03F7/20（2006.01）I;B01D35/02（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 不公告发明人 | 申请（专利权）人 | 常熟埃眸科技有限公司 |
| 代理机构 | 天津市科航尚博专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 吴疆 |
| 地址 | 215505江苏省苏州市常熟高新技术产业开发区东南大道1号810室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种半导体生产制造用光刻机，包括光刻机本体、水箱和盒体，所述光刻机本体一侧通过螺栓固定有水箱，所述水箱内部通过螺栓固定有过滤网，所述水箱顶部通过螺栓固定有盒体，所述盒体顶部设置有盒盖，所述盒盖底部通过安装架安装有放置板，所述放置板顶部开设有卡槽，所述水箱内顶部热熔连接有限位架，所述限位架内部套设有玻璃板，所述水箱顶部一端通过螺栓固定有抽水泵。本实用新型可以对刻印后的晶圆进行清洗，同时方便人员检测、观察晶圆上刻印的图案。 |
