PDP保护屏的电磁波屏蔽膜的制作方法
基本信息
| 申请号 | CN200510020548.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN100372449C | 公开（公告）日 | 2008-02-27 |
| 申请公布号 | CN100372449C | 申请公布日 | 2008-02-27 |
| 分类号 | H05K9/00(2006.01);H01J9/00(2006.01);H01J17/16(2006.01) | 分类 | 其他类目不包含的电技术; |
| 发明人 | 梁春林;汤嘉陵;王雨田;张勇;蒲志勇 | 申请（专利权）人 | 四川世创达电子科技有限公司 |
| 代理机构 | 成都虹桥专利事务所 | 代理人 | 蒲敏 |
| 地址 | 610512四川省成都市新都开发区东区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种PDP保护屏的电磁波屏蔽膜的制作方法，其具体步骤为：1)静电处理：对PET表面进行静电释放处理；2)真空溅射膜：采用真空直流磁控溅射技术，在上述经处理后的PET上溅射金属膜；3)等离子刻蚀网膜：采用高精密等离子体刻蚀技术，在上述金属膜上刻蚀网孔膜；4)等离子去胶：去除上述网孔膜上的刻蚀胶后即成。本发明的电磁波屏蔽膜由于采用了刻蚀技术来制作网孔膜，因此网膜的线径和网间距均很小，网膜的对比度高、不产生光学变形，电磁波屏蔽性能好。 |
