一种防止旋转不平衡的石墨基座
基本信息
| 申请号 | CN202020026043.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN211570768U | 公开（公告）日 | 2020-09-25 |
| 申请公布号 | CN211570768U | 申请公布日 | 2020-09-25 |
| 分类号 | C23C16/458(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 蓝图;黄洪福 | 申请（专利权）人 | 深圳市志橙半导体材料股份有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市添源知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 黎健任 |
| 地址 | 518000广东省深圳市宝安区松岗街道潭头社区健仓科技研发厂区办公楼307 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉气相沉积领域，特别涉及一种防止旋转不平衡的石墨基座。其包括旋转基座、安装槽、与销钉配合连接的卡槽，安装槽设置在旋转基座的中心位置并从旋转基座的上表面向底部延伸，安装槽的外侧周围均匀凸出设置有多个卡槽，卡槽从旋转基座的上表面向底部延伸，卡槽与安装槽连通。本石墨基座解决由于旋转过程中由于石墨基座单边受力，容易引起石墨基座旋转不平衡，从而影响产品生产的稳定性的问题，能有效降低石墨基座旋转不平衡导致产品报废的概率，显著提高薄膜均匀性以及质量，并有效延长石墨基座的使用周期。 |
