一种气相沉积炉内气体悬浮装置
基本信息
| 申请号 | CN201911233422.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110760820A | 公开（公告）日 | 2020-02-07 |
| 申请公布号 | CN110760820A | 申请公布日 | 2020-02-07 |
| 分类号 | C23C16/455 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 黄洪福;蓝图;袁永红;雷宏涛 | 申请（专利权）人 | 深圳市志橙半导体材料股份有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市添源知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 罗志伟 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市宝安区松岗街道潭头社区健仓科技研发厂区办公楼307 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种气相沉积炉内气体悬浮装置，包括平行设置并且旋转配合的石墨盘和底座，所述底座上设有主进气孔、第一分气孔、第二分气孔、第一倾斜出气孔和第二倾斜出气孔，所述第一分气孔、第二分气孔分别位于所述主进气孔的两侧，所述第一分气孔、第二分气孔分别与所述主进气孔交汇连通于同一点。本发明的有益效果是：在主进气孔的同一位置分出第一分气孔、第二分气孔，再分别通过第一倾斜出气孔、第二倾斜出气孔产生旋转气体，推动石墨盘悬浮并转动，保证了气体流动阻力一致，有效保证了两倾斜气体流量一样，悬浮效果好，旋转顺畅，可显著提高薄膜均匀性以及质量，并有效延长装置的使用周期。 |
