一种化学气相沉积炉的基体支撑装置及基体旋转驱动装置
基本信息
| 申请号 | CN201820349599.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN208201119U | 公开（公告）日 | 2018-12-07 |
| 申请公布号 | CN208201119U | 申请公布日 | 2018-12-07 |
| 分类号 | C23C16/458 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 周玉燕;林培英;黄洪福;朱佰喜 | 申请（专利权）人 | 深圳市志橙半导体材料股份有限公司 |
| 代理机构 | 广州市天河庐阳专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 胡济元 |
| 地址 | 518054 广东省深圳市南山区南山街道南山大道康乐大厦福海阁10F | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开一种化学气相沉积炉中的基体支撑装置，包括支撑架、若干个沿着圆周方向设在支撑架上的滚动槽以及设在每个滚动槽中用于支撑基体的滚球，所述支撑架上设有用于限制基体离心甩出的挡块。该基体支撑装置不但可以支撑质量大小不同的基体，且支撑处不会产生无薄膜的缺口，使得基体表面能均匀地一次沉积到所需的薄膜，既提高了基体的表面质量，也降低了成本。本实用新型还公开一种化学气相沉积炉中的基体旋转驱动装置，包括转盘、驱动转盘转动的转盘驱动机构以及若干个基体支撑装置，所述转盘的转动中心构成公转中心，支撑架与转盘之间的转动结构的中心构成自转中心；所述转盘上设有驱动支撑架绕着自转中心转动的自转驱动机构。 |
