一种具有碳化硅涂层的硅片外延基座
基本信息
| 申请号 | CN202120942561.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214937796U | 公开（公告）日 | 2021-11-30 |
| 申请公布号 | CN214937796U | 申请公布日 | 2021-11-30 |
| 分类号 | C23C16/458（2006.01）I;C30B25/12（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 袁永红;周祖豪;朱佰喜 | 申请（专利权）人 | 深圳市志橙半导体材料股份有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市添源知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 于标 |
| 地址 | 518000广东省深圳市宝安区松岗街道潭头社区健仓科技研发厂区办公楼307 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种具有碳化硅涂层的硅片外延基座，包括基座本体、口袋和应力槽，其中，所述应力槽设置于基座本体上。本实用新型的基座工作时，由应力槽释放应力，避免应力集中，能有效降低基座开裂，有效地防止了基座开裂导致石墨中的碳和其它杂质对硅片造成污染，进而能够生产出高纯净度、高质量的硅外延片，并有效延长基座的使用周期。 |
