首页/ 重庆光谱新材料科技有限公司/ 专利详情

层叠体及其制备方法、偏光膜的制备方法

基本信息

申请号 CN201611018861.8 申请日 -
公开（公告）号 CN106526734A 公开（公告）日 2017-03-22
申请公布号 CN106526734A 申请公布日 2017-03-22
分类号 G02B5/30 分类 光学;
发明人 丁丽婷;吕新坤;曹国刚;胡明源 申请（专利权）人 重庆光谱新材料科技有限公司
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 赵青朵
地址 401220 重庆市长寿区晏家街道经济技术开发区齐心大道22号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供了一种层叠体及其制备方法、偏光膜的制备方法，该层叠体的制备方法包括以下步骤：S1)将第一聚乙烯醇溶液流延至热塑性树脂基材的上表面形成第一聚乙烯醇薄膜层；S2)将第二聚乙烯醇溶液流延至形成第一聚乙烯醇薄膜层的热塑性树脂基材的下表面形成第二聚乙烯醇薄膜层，得到层叠体；所述第一聚乙烯醇薄膜层的厚度大于第二聚乙烯醇薄膜层。与现有技术相比，本发明在热塑性树脂基材表面先后涂布不同厚度的聚乙烯醇溶液，既便于制备过程中对挥发份含量的控制，避免层叠体因上下挥发份含量不同而卷曲，又能实现不同厚度偏光膜的制备；此外，采用该层叠体制备的聚乙烯醇偏光膜拉伸性能、光学性能优异。