一种氮化硅化学机械抛光液
基本信息
| 申请号 | CN201611070459.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108117838B | 公开（公告）日 | 2021-09-17 |
| 申请公布号 | CN108117838B | 申请公布日 | 2021-09-17 |
| 分类号 | C09G1/02（2006.01）I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 周文婷 | 申请（专利权）人 | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京大成律师事务所 | 代理人 | 李佳铭 |
| 地址 | 201201上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6-9幢底层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种氮化硅化学机械抛光液，包括研磨颗粒、含一个或多个羧基基团的化合物、含有长烷基链的阴离子表面活性剂。本发明氮化硅化学机械抛光液在提高SiN的抛光速度的同时可以Teos抛光速度，具有较高的SiN/Teos的选择比，减少抛光后基材表面地缺陷，具有良好的市场适用性。 |
