一种化学机械抛光液
基本信息
| 申请号 | CN201710569718.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109251671B | 公开（公告）日 | 2021-09-17 |
| 申请公布号 | CN109251671B | 申请公布日 | 2021-09-17 |
| 分类号 | C09G1/02 | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 李守田;尹先升;贾长征;王雨春 | 申请（专利权）人 | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京大成律师事务所 | 代理人 | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址 | 201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6-9幢底层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种化学机械抛光液，包括溶胶型氧化铈、含羟基的非离子型表面活性剂以及pH调节剂。本发明采用溶胶型氧化铈研磨颗粒与含有羟基的非离子型表面活性剂配合使用的技术方案，在一定pH条件下，实现在几乎不降低氧化硅的抛光速率的条件下，提高氧化硅对多晶硅的选择比。 |
