一种化学机械抛光液
基本信息
| 申请号 | CN201710570203.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109251677B | 公开（公告）日 | 2021-08-13 |
| 申请公布号 | CN109251677B | 申请公布日 | 2021-08-13 |
| 分类号 | C09G1/02 | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 李守田;尹先升;贾长征;王雨春 | 申请（专利权）人 | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京大成律师事务所 | 代理人 | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址 | 201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6-9幢底层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种化学机械抛光液，包含氧化铈研磨颗粒、苯甲酸类化合物及pH调节剂。采用上述组分的抛光液，可以显著提高其对二氧化硅介质层的抛光速率，抑制氮化硅的抛光速率，提高二氧化硅对氮化硅的选择比，同时克服现有技术中抛光速率不均匀的问题。 |
