一种化学机械抛光液
基本信息
| 申请号 | CN201710570202.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109251676B | 公开（公告）日 | 2021-07-30 |
| 申请公布号 | CN109251676B | 申请公布日 | 2021-07-30 |
| 分类号 | C09G1/02（2006.01）I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 李守田;尹先升;贾长征;王雨春 | 申请（专利权）人 | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京大成律师事务所 | 代理人 | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址 | 201201上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6-9幢底层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种化学机械抛光液，包含氧化铈磨料颗粒、聚季铵盐及pH调节剂。本发明中的聚季铵盐可控制氧化硅的抛光速率，使得在高压下达到高的氧化硅抛光速率，在低压下实现低的氧化硅的抛光速率，从而取得较低碟形凹陷（dishing）。 |
