一种氮化硅化学机械抛光液
基本信息
| 申请号 | CN201611070743.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108117840B | 公开（公告）日 | 2021-09-21 |
| 申请公布号 | CN108117840B | 申请公布日 | 2021-09-21 |
| 分类号 | C09G1/02（2006.01）I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 周文婷 | 申请（专利权）人 | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京大成律师事务所 | 代理人 | 李佳铭 |
| 地址 | 201201上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6-9幢底层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种氮化硅化学机械抛光液，包括水和研磨颗粒，同时还包括含一个或多个羧基基团的杂环类化合物、聚胺酸与烷醇胺化合物、pH调节剂和杀菌剂。本发明的抛光液可以提高氮化硅与二氧化硅抛光速度选择比，以及氮化硅与多晶硅抛光速度选择比，同时能够具有显著提高的氮化硅抛光速度以及减小的二氧化硅和多晶硅抛光速度，就有良好的市场应用前景。 |
