氮化镓二硫化钼混合尺度PN结的制备方法

基本信息

申请号 CN202010375617.7 申请日 -
公开(公告)号 CN111430244A 公开(公告)日 2020-07-17
申请公布号 CN111430244A 申请公布日 2020-07-17
分类号 H01L21/34 分类 -
发明人 曹玉洁;陈敦军;谢自力 申请(专利权)人 南京南大光电工程研究院有限公司
代理机构 江苏斐多律师事务所 代理人 南京南大光电工程研究院有限公司
地址 210046 江苏省南京市经济技术开发区恒发路28号04幢
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种氮化镓二硫化钼混合尺度PN结的制备方法,其步骤包括:(1)在衬底上沉积p‑GaN层;(2)在干净、平整的玻片表面放置PDMS,在胶带的表面铺一层均匀的MoS2片状晶体,用胶带粘有MoS2片状晶体的一面接触PDMS并施压,使MoS2转移到PDMS上形成MoS2膜,揭下胶带,再将步骤(1)制得的器件的p‑GaN层表面反扣在PDMS上并施压,使MoS2膜转移到p‑GaN层表面,制成氮化镓二硫化钼混合尺度PN结。本发明中采用的是PDMS辅助干法转移,操作简单,制作成本低廉。利用该方法制备出来的MoS2薄膜尺寸较大,且与传统的机械剥离法相比,该方法制备的样品衬底较为干净,便于后续的器件测试。