光刻机照明光瞳偏振态测量用光学系统

基本信息

申请号 CN201510155835.9 申请日 -
公开(公告)号 CN104777609B 公开(公告)日 2018-07-13
申请公布号 CN104777609B 申请公布日 2018-07-13
分类号 G02B27/00;G03F7/20 分类 光学;
发明人 蔡燕民;王向朝;步扬;唐锋;黄惠杰 申请(专利权)人 北京国望光学科技有限公司
代理机构 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 代理人 中国科学院上海光学精密机械研究所;北京国望光学科技有限公司
地址 201800 上海市嘉定区上海市800-211邮政信箱
法律状态 -

摘要

摘要 一种光刻机照明光瞳偏振态测量用光学系统,沿所述光学系统的光轴方向依次包括:孔径光阑、傅里叶变换物镜、四分之一波片、检偏器、中继物镜、像传感器,该光学系统用于将针孔掩模版图形面内的针孔变换到像传感器的靶面(即光敏面)内。本发明能满足像传感器尺寸、四分之一波片和检偏器的位置与尺寸要求,物方视场角较大、后工作距较长,整体结构紧凑;并且满足正弦条件的要求,球差、彗差、象散、场曲、波像差等都得到很好的校正。