光刻机照明均匀性校正装置和校正方法
基本信息
| 申请号 | CN201710000725.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN107065443B | 公开（公告）日 | 2018-07-13 |
| 申请公布号 | CN107065443B | 申请公布日 | 2018-07-13 |
| 分类号 | G03F7/20 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 程伟林;张方;杨宝喜;黄惠杰 | 申请（专利权）人 | 北京国望光学科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海恒慧知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所;北京国望光学科技有限公司 |
| 地址 | 201800 上海市嘉定区上海市800-211邮政信箱 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种光刻机照明均匀性校正装置和校正方法，校正装置包括基座、上校正模块和下校正模块。上校正模块与下校正模块放置于照明光场的扫描方向的两侧，且相对于照明光场非扫描方向对称分布。其中上校正模块与下校正模块中均有一块柔性薄板，通过控制该柔性薄板横截面上不同点的位移来得到相应的挠曲变形，并沿照明光场扫描方向运动进入照明光场以遮挡部分照明光，从而达到校正照明均匀性的目的。因柔性薄板发生挠曲变形后的轮廓为连续曲线，所以本发明的装置具有更高的校正能力和校正分辨率。 |
