一种MOCVD设备反应室喷淋口的清洁装置
基本信息
| 申请号 | CN202123285300.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216574396U | 公开（公告）日 | 2022-05-24 |
| 申请公布号 | CN216574396U | 申请公布日 | 2022-05-24 |
| 分类号 | B08B1/04（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;B08B15/04（2006.01）I;C23C16/44（2006.01）I;C30B25/02（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 仇成功;赵海明;胡新星;左万胜;刘敏;唐建平;王丽多;袁松;钮应喜 | 申请（专利权）人 | 安徽长飞先进半导体有限公司 |
| 代理机构 | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 241000安徽省芜湖市弋江区高新技术产业开发区服务外包园3号楼1803 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型揭示了一种MOCVD设备反应室喷淋口的清洁装置，清洁装置设有风罩，所述风罩的底板上固定有电机，所述电机的输出轴连接风罩内的刀座，所述刀座上固定有刀片，所述风罩上设有抽尘孔，所述抽尘孔与软管一端连接，所述软管的另一端连接吸尘设备。本实用新型采用半自动化代替手动清洁，节省操作人员体力，提高工作效率，并且能够减少手动清洁时产生的大量颗粒物，进而降低因颗粒物掉落至衬底表面而引起的外延层缺陷。 |
