一种靶材及应用该靶材的半导体器件加工设备
基本信息
申请号 | CN202011281403.X | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN112295492A | 公开(公告)日 | 2021-02-02 |
申请公布号 | CN112295492A | 申请公布日 | 2021-02-02 |
分类号 | B01F13/10(2006.01)I; | 分类 | 一般的物理或化学的方法或装置; |
发明人 | 刘耀文;黄军浩 | 申请(专利权)人 | 光洋新材料科技(昆山)有限公司 |
代理机构 | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 汤东凤 |
地址 | 215000江苏省苏州市昆山市玉山镇吴淞江工业园晨丰路南侧 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种靶材及应用该靶材的半导体器件加工设备,其技术方案是:包括混合筒,所述混合筒内部设有混合机构,所述混合机构延伸出混合筒外部;所述混合机构包括电机,所述电机固定设于混合筒顶部,所述电机通过输出轴固定连接有转动杆,所述转动杆设于混合筒顶部并延伸入混合筒内部,所述混合筒内部固定设有多个混合组件,所述混合组件包括固定箱,所述固定箱固定设于混合筒内部,本发明的有益效果是:通过混合机构的设计,可以通过多个混合组件对原料进行多次混合,而且在混合时,每次加入的一种新的原料进行混合,在通过多个混合组件来进行多次混合,充分的保证了原料的混合效果。 |
