一种玻璃基板薄膜溅射靶材的制备方法

基本信息

申请号 CN202011284457.1 申请日 -
公开(公告)号 CN112323029A 公开(公告)日 2021-02-05
申请公布号 CN112323029A 申请公布日 2021-02-05
分类号 C23C14/34(2006.01)I; 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 刘耀文;黄军浩 申请(专利权)人 光洋新材料科技(昆山)有限公司
代理机构 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 汤东凤
地址 215000江苏省苏州市昆山市玉山镇吴淞江工业园晨丰路南侧
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种玻璃基板薄膜溅射靶材的制备方法,其技术方案是:包括基料、辅料和添加料,还包括以下加工步骤:S1:将基料、辅料和添加料均通过研磨机研磨成金属粉末;S2:将S1中研磨得到的金属粉末采用球磨机均匀混合,得到混合粉末;S3:将S2中的混合粉末放入酸溶液中浸泡清洗并搅拌,而后取出烘干,一种玻璃基板薄膜溅射靶材的制备方法有益效果是:通过设置金属银和金属铂为基础原料,配以金属铜、金属金、金属钯和为辅料,同时再通过添加一定配比的金属铝、金属锰和金属锡对靶材性能改善提升,使得值得的靶材各方面性能优异均衡,耐磨耐腐蚀能力较好,同时自身强度得到提升,韧性和延展性依然保留,具有较好的可塑性和延展性。