一种硅管溅射靶材的制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202011284440.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112410737A | 公开（公告）日 | 2021-02-26 |
| 申请公布号 | CN112410737A | 申请公布日 | 2021-02-26 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C01B33/02(2006.01)I;C01B33/037(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘耀文;黄军浩 | 申请（专利权）人 | 光洋新材料科技（昆山）有限公司 |
| 代理机构 | 北京科亿知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 汤东凤 |
| 地址 | 215000江苏省苏州市昆山市玉山镇吴淞江工业园晨丰路南侧 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开的属于硅管溅射靶材技术领域，具体为一种硅管溅射靶材的制备方法，包括金屬硅与金属元素添加剂，其中各成分质量份数为：金屬硅：96‑98份；金属元素添加剂：2‑4份；还包括以下步骤：S1，使用超声波设备对金屬硅进行清洗，并将金屬硅通过两次球磨变成硅粉；S2，使用混合装置将金屬硅和金属元素添加剂混合均匀，得到混合粉末；S3，将混合粉末装入冷等静压模具的管形空腔中，通过三次静压工艺压制硅粉成管状，然后脱去冷等静压模具得到硅管坯，对硅管坯端头及外表面进行修整；本发明结构设计科学合理，对基材具有更为优秀的比抗阻、应力和耐腐蚀性能，使用中将更加可靠。 |
