一种新型底部抗反射涂层组合物及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202111671202.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114706273A | 公开（公告）日 | 2022-07-05 |
| 申请公布号 | CN114706273A | 申请公布日 | 2022-07-05 |
| 分类号 | G03F7/09（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 顾大公;夏力;马潇;陈鹏;卢汉林;许从应;毛智彪 | 申请（专利权）人 | 宁波南大光电材料有限公司 |
| 代理机构 | 深圳盛德大业知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 315800浙江省宁波市北仑区柴桥街道青山路21号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种新型底部抗反射涂层组合物及其制备方法，所述底部抗反射涂层组合物包括下述质量百分比的原料：主体树脂0.5％‑15％、含芳环结构的交联剂A 5％‑15％、交联剂B 0.1％‑5％、热敏酸0.1％‑1％、余量为溶剂。该底部抗反射涂层组合物含有芳环结构，特别是当含有芳基的甘脲结构，可以通过改变含芳基的比例，方便的调整n/k值，大大降低底部抗反射涂层组合物产品在n/k值方面的调整难度，减少光刻胶底部界面出现反射和诸如驻波等问题，提高光刻工艺中线宽解析度。 |
