金红石疏水薄膜的强化直流磁控溅射制备方法
基本信息
| 申请号 | CN00127814.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN1118587C | 公开（公告）日 | 2003-08-20 |
| 申请公布号 | CN1118587C | 申请公布日 | 2003-08-20 |
| 分类号 | C23C14/35;C23C14/08;C01G23/047 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王辉 | 申请（专利权）人 | 杉杉集团有限公司 |
| 代理机构 | 上海交达专利事务所 | 代理人 | 毛翠莹 |
| 地址 | 200122上海市浦东东方路985号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种金红石疏水薄膜的强化直流磁控溅射制备方法，其特征在于强化直流溅射条件，采用高磁控钛靶溅射，并结合高溅射电流密度、高基板温度、低工作气压及高氧分压条件，以保证充分的电离和沉积薄膜的氧化，并使溅射稳定，提高沉积率。本发明制备的二氧化钛薄膜为含少量锐钛矿的金红石多晶结构，具有良好的耐摩擦性和疏水特性，表面附着力非常好，可用于玻璃镜片、陶瓷，幕墙玻璃和汽车后视镜等材料的表面镀膜，也可用于制备某些生物医药材料。 |
