晶体硅热氧化工艺、系统及晶体硅太阳能电池热氧化工艺

基本信息

申请号 CN201810066451.3 申请日 -
公开(公告)号 CN108417474B 公开(公告)日 2021-12-21
申请公布号 CN108417474B 申请公布日 2021-12-21
分类号 H01L21/02(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 谭鑫;周公庆;刘爱民 申请(专利权)人 锦州阳光能源有限公司
代理机构 沈阳友和欣知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 杨群
地址 121000 辽宁省锦州市经济技术开发区西海工业园区
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供一种晶体硅热氧化工艺、系统及晶体硅太阳能电池热氧化工艺,晶体硅热氧化工艺包括以下步骤:将硅片放置于紫外臭氧腔室内;向紫外臭氧腔室内通入携带有水蒸气的二氧化氮与氧气的混合气,紫外臭氧腔室内的氧气在紫外线的促进下转化为臭氧和游离氧;在150‑160℃的温度下,在水蒸气、二氧化氮、臭氧和游离氧的共同促进下,硅片表面生成二氧化硅氧化层。该方法工艺简单、耗时短、成本低、晶体硅钝化效果佳。