晶体硅热氧化工艺、系统及晶体硅太阳能电池热氧化工艺
基本信息
申请号 | CN201810066451.3 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN108417474B | 公开(公告)日 | 2021-12-21 |
申请公布号 | CN108417474B | 申请公布日 | 2021-12-21 |
分类号 | H01L21/02(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 谭鑫;周公庆;刘爱民 | 申请(专利权)人 | 锦州阳光能源有限公司 |
代理机构 | 沈阳友和欣知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 杨群 |
地址 | 121000 辽宁省锦州市经济技术开发区西海工业园区 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供一种晶体硅热氧化工艺、系统及晶体硅太阳能电池热氧化工艺,晶体硅热氧化工艺包括以下步骤:将硅片放置于紫外臭氧腔室内;向紫外臭氧腔室内通入携带有水蒸气的二氧化氮与氧气的混合气,紫外臭氧腔室内的氧气在紫外线的促进下转化为臭氧和游离氧;在150‑160℃的温度下,在水蒸气、二氧化氮、臭氧和游离氧的共同促进下,硅片表面生成二氧化硅氧化层。该方法工艺简单、耗时短、成本低、晶体硅钝化效果佳。 |
