一种基于无掩膜光刻机的数字掩膜版工艺
基本信息
| 申请号 | CN202110344156.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113064330A | 公开（公告）日 | 2021-07-02 |
| 申请公布号 | CN113064330A | 申请公布日 | 2021-07-02 |
| 分类号 | G03F7/20 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 冯捷;吴阳;严振中;刘威 | 申请（专利权）人 | 赫智科技（苏州）有限公司 |
| 代理机构 | 北京同辉知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 廖娜 |
| 地址 | 215000 江苏省苏州市工业园区若水路388号H402室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种基于无掩膜光刻机的数字掩膜版工艺，将已经设计的图形采用软件处理生成黑白二值的位图图像，接着传入DMD，利用DMD的特性使紫外光对应位图图像的部分反射，黑色区域不会反射紫外光，白色区域反射紫外光，使样品得到正确的曝光，完成光刻。本发明能实现高效的光刻，提高工作效率的同时，还能提高精确性。 |
