一种声学谐振器及其制造方法和应用
基本信息
申请号 | CN202111598892.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114665837A | 公开(公告)日 | 2022-06-24 |
申请公布号 | CN114665837A | 申请公布日 | 2022-06-24 |
分类号 | H03H9/02(2006.01)I;H03H9/10(2006.01)I;H03H9/56(2006.01)I;H03H9/58(2006.01)I;H03H3/02(2006.01)I | 分类 | 基本电子电路; |
发明人 | 卓尔·赫尔维茨 | 申请(专利权)人 | 珠海晶讯聚震科技有限公司 |
代理机构 | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 300000天津市东丽区自贸试验区(空港经济区)西七道18号(3)幢天保工业厂房102房 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明涉及一种声学谐振器,所述声学谐振器是构成FBAR滤波器的基础部件,所述FBAR滤波器包括富阱层以通过降低自由电荷寿命而避免寄生电阻。所述声学谐振器具有第一电极、第二电极和压电层,第一电极构成第一平面,所述第二电极设置成平行于所述第一平面部分,所述压电层设置于所述第一和第二平面电极之间并接触两者。硅基支撑层包含富阱区域键合至所述第二电极。所述声学谐振器可通过以下方式来制造:(a)将所述富阱区域沉积于所述硅基支撑层上;(b)将所述富阱区域的表面氧化;(c)将键合层沉积于所述富阱区域的所述氧化表面上;(d)将第一电极与含富阱层的硅基氧化层一面键合;(e)使压电层的第一侧接触所述第一电极;(f)使所述压电层的第二侧接触第二电极。 |
