光分解碱、含其的光刻胶组合物及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201811008056.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108997182A | 公开（公告）日 | 2018-12-14 |
| 申请公布号 | CN108997182A | 申请公布日 | 2018-12-14 |
| 分类号 | C07C381/12;C07C67/30;C07C67/08;C07C69/40;G03F7/004 | 分类 | 有机化学〔2〕; |
| 发明人 | 傅志伟;宋红波;戴俊燕;冉瑞成;毛国平 | 申请（专利权）人 | 江苏汉拓光学材料有限公司 |
| 代理机构 | 上海智晟知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 江苏汉拓光学材料有限公司 |
| 地址 | 201612 上海市松江区中心路1158号9号楼4-5楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及一种含有半氟取代的烷基基团的光分解碱，其具有通过下述通式(I)所示的结构：其中各基团如说明书中所定义。本申请还提供一种包含上述光分解碱的光刻胶组合物。本申请还提供一种制备如上所述的光分解碱的方法。本申请的有益效果在于本申请的光分解碱在光刻胶中具有很好的均匀分布性能，且具有很高的柔性，与光刻胶树脂有很好的相容性，具有较慢的扩散性能，提高了的光刻胶的分辨率，在高端光刻胶中，具有很好的光刻性能。 |
