一种环氧型负性厚膜光刻胶及其制备与使用方法
基本信息
| 申请号 | CN201911170357.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111007696A | 公开（公告）日 | 2020-04-14 |
| 申请公布号 | CN111007696A | 申请公布日 | 2020-04-14 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 刘平;刘永生;孙友松;冉瑞成;毛国平;傅志伟 | 申请（专利权）人 | 江苏汉拓光学材料有限公司 |
| 代理机构 | 上海智晟知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 江苏汉拓光学材料有限公司 |
| 地址 | 201612上海市松江区中心路1158号9号楼4-5楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种环氧型负性厚膜光刻胶，其包括以下质量百分比的组成：环氧树脂10～80％；光致产酸剂3～6％；聚合型缩水甘油醚添加剂1～5％；流平剂100～3000ppm；溶剂余量。本申请还涉及上述环氧型负性厚膜光刻胶的制备与使用方法。本发明显著改善了该厚膜光刻胶的胶膜开裂缺陷，扩大了应用范围。本发明涉及的光刻胶涂膜厚度大约10‑200um，适合制备具有高深宽比的微结构的电路或器件。 |
