一种涂胶机
基本信息
| 申请号 | CN202120564247.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214151371U | 公开（公告）日 | 2021-09-07 |
| 申请公布号 | CN214151371U | 申请公布日 | 2021-09-07 |
| 分类号 | G03F7/16（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 曹永茂;王吉刚;陈文卓;冷正超 | 申请（专利权）人 | 山东华菱电子股份有限公司 |
| 代理机构 | 威海科星专利事务所 | 代理人 | 初姣姣 |
| 地址 | 264200山东省威海市高技术产业开发区火炬路159号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及涂胶设备技术领域，具体的说是一种特别适用于半导体电路图像化处理工艺中薄片基板用的涂胶机，其特征在于，支撑辊由第一支撑组件承托，涂胶辊由第二支撑组件承托，所述第一支撑组件中包括对称设置在工作台上的左侧立板、右侧立板，以及固定于左侧立板和右侧立板顶部的支撑横梁；第二支撑组件包括第二左立板和第二右立板，其中第二左立板与第二右立板的上端分别经高度调节螺杆与支撑横梁相连；支撑辊由支撑电动机驱动，涂胶辊由涂胶电动机驱动，支撑辊与涂胶辊转动方向相反，本实用新型在基板表面涂布的光刻胶胶厚均匀，且涂胶过程中涂胶辊与支撑辊表面不接触，避免光刻胶污染，极大地改善涂胶产品品质。 |
