一种空间分布光学测量装置
基本信息
| 申请号 | CN202020532220.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN211783857U | 公开（公告）日 | 2020-10-27 |
| 申请公布号 | CN211783857U | 申请公布日 | 2020-10-27 |
| 分类号 | G01J1/42(2006.01)I;G01J1/02(2006.01)I | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 潘建根;李倩;沈思月 | 申请（专利权）人 | 远方谱色科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 311200浙江省杭州市萧山区萧山经济技术开发区红垦农场垦辉六路739号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开一种空间分布光学测量装置，包括外罩，样品台，待测发光源以及成像测量装置，其中所述外罩的内表面设有漫反射涂层；所述待测发光源设置在所述样品台上；所述成像测量装置的视场覆盖所述待测发光源投射到所述外罩内表面的像。本实用新型通过设置内表面设有漫反射涂层的外罩，去接收待测发光源的光斑，然通过成像测量装置直接对光斑在外罩内表面的像进行拍摄，避免使用匀光膜，防止横向散射对测量结果的影响，从而到达较少测量误差提高测量精度的技术效果。 |
