一种硅片单组份清洗剂及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202111084976.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113773920A | 公开（公告）日 | 2021-12-10 |
| 申请公布号 | CN113773920A | 申请公布日 | 2021-12-10 |
| 分类号 | C11D1/831（2006.01）I;C11D3/04（2006.01）I;C11D3/10（2006.01）I;C11D3/20（2006.01）I;C11D3/33（2006.01）I;C11D3/34（2006.01）I;C11D3/37（2006.01）I;C11D3/60（2006.01）I | 分类 | 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛; |
| 发明人 | 徐志群;高大;孙彬;付明全 | 申请（专利权）人 | 广东金湾高景太阳能科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京众达德权知识产权代理有限公司 | 代理人 | 张晓冬 |
| 地址 | 519000广东省珠海市金湾区三灶镇金海岸大道西46号4#号厂房第四层404 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种硅片单组份清洗剂及其制备方法，包括以下重量份原料：无机碱2‑10份、螯合剂1‑10份、缓冲剂1‑5份、分散剂1‑5份、复合非离子表面活性剂10‑20份，悬浮剂2‑6、助溶剂2‑5份、磺酸2‑5份、消泡剂1‑3份、缓蚀剂1‑3份、去离子水5‑10份和纯水20‑30份；本发明采用单组分的配方，使用的添加比较方便，清洗效果良好，对于光伏硅片脏污有较强的去除能力，同时此清洗剂泡沫较小，能满足硅片清洗要求，同时此清洗剂浊点在60度以上，可以在较高温度下使用，降低了硅片清洗过程中的成本和减少清洗浮片异常引起的硅片表面硅粉污、崩边和破片，相比现有的清洗剂成本较低且硅片表面清洗脏污效果更好。 |
