一种磁控靶材冷却水水排
基本信息
| 申请号 | CN202021540848.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212864952U | 公开（公告）日 | 2021-04-02 |
| 申请公布号 | CN212864952U | 申请公布日 | 2021-04-02 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 温泉;池永奎;肖平;张云 | 申请（专利权）人 | 浙江日久新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 杭州中利知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 赖学能 |
| 地址 | 314300浙江省嘉兴市海盐县西塘桥街道(海盐经济开发区)银滩路189号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种磁控靶材冷却水水排，包括支撑架、水排主管、水排支路管、总进水孔、总进水管、排水管和抗震支撑底座，所述支撑架上设有水排主管，所述水排主管的底部设有若干水排支路管，所述水排支路管的顶端位于水排主管内部且水排支路管的顶端高于水排主管的底部，所述水排主管的后侧设有总进水孔，所述总进水孔上设有总进水管，所述水排主管的顶部设有排水管，所述支撑架的底部设有抗震支撑底座，与现有技术相比，本实用新型结构简单，设计合理，能有效避免冷却水中的杂质通过水排支路管进入到设备内部，造成水管堵塞，从而降低了维护频率，增加了生产效率。 |
