一种水下干式高压环境下的GMAW熔滴过渡图像拍摄系统

基本信息

申请号 CN201510250658.2 申请日 -
公开(公告)号 CN104954739B 公开(公告)日 2018-11-02
申请公布号 CN104954739B 申请公布日 2018-11-02
分类号 H04N7/18;H04N5/232 分类 电通信技术;
发明人 马正住;朱加雷;周灿丰;焦向东;李卫强;贾存锋;石庭深;王纪兵;冯艳鹏 申请(专利权)人 国千科技集团有限公司
代理机构 北京凯特来知识产权代理有限公司 代理人 郑立明;赵镇勇
地址 102600 北京市大兴区黄村清源北路19号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种水下干式高压环境下的GMAW熔滴过渡图像拍摄系统,在高压焊接试验舱内设有熔化极焊炬,将氙灯和高速摄像机分别置于所述熔化极焊炬的两侧,熔化极焊炬的焊丝末端同时位于高速摄像机的焦点和所述氙灯的焦点位置。高速摄像机的镜头中心、所述焊丝末端、所述氙灯的光源中心三点同轴共线。高速摄像机的镜头采用微距镜头。高速摄像机的镜头连接有中心频率为632.8mm的带通滤光片。氙灯前设有聚焦透镜。高速摄像机连接有控制显示装置。可用于0.6MPa(相当于60m水深)压力环境下的GMAW熔滴过渡图像拍摄,实现在0.6MPa以下的高气压压缩空气条件下,得到清晰柔和的熔滴过渡和电弧形态图像。