一种镀膜基片的等离子清洗装置
基本信息
| 申请号 | CN202020556121.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212247177U | 公开（公告）日 | 2020-12-29 |
| 申请公布号 | CN212247177U | 申请公布日 | 2020-12-29 |
| 分类号 | C23C14/02;C23C16/02 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 关秉羽 | 申请（专利权）人 | 辽宁北宇真空科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京慕达星云知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 崔自京 |
| 地址 | 112000 辽宁省铁岭市铁岭县工业园区懿路工业园 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种镀膜基片的等离子清洗装置，该装置包括真空室，真空室具有充气孔和抽气孔，还包括位于真空室内的电离阴极、电离阳极、工件架、挡板和位于真空室外的离化源一、离化源二、电源；离化源一的阳极接地阴极连接电离阴极，离化源二阴极接地阳极连接电离阳极，电源阳极接地阴极连接工件架。利用阴阳极电磁场作用使电离出的电子定向移动，在移动过程中碰撞工作气体原子使其带正电从而使真空室中形成密集的带正电的离子和带负电的电子，带正电的离子不断向具有负高压的工件飞速移动，撞击工件表面时将工件表面的污染物打掉达到清洗的作用，该清洗方式还可清洗掉更深层次的污染物，其清洗效果好且效率高，具有较高的应用价值。 |
