辐照装置及其控制方法
基本信息
| 申请号 | CN200710130623.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN101110280A | 公开（公告）日 | 2008-01-23 |
| 申请公布号 | CN101110280A | 申请公布日 | 2008-01-23 |
| 分类号 | G21K5/00(2006.01);G21K5/04(2006.01) | 分类 | 核物理；核工程; |
| 发明人 | 刘耀红;唐华平;阎忻水;高建军;高峰;张东生;梁笑天;魏德;刘晋升;贾玮;印炜;张丹;谷冲;张庆辉 | 申请（专利权）人 | 清华同方威视技术股份有限公司 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 柴毅敏 |
| 地址 | 100084北京市海淀区双清路同方大厦A座2层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种辐照装置及其控制方法，该装置包括电子加速器、与电子加速器相连接的扫描盒，在扫描盒上设有扫描磁铁、靶和电子束出射窗，电子束出射窗位于靶的左侧或右侧。本发明积极效果是：本发明集现有的电子束引出式辐照装置和X射线引出式辐照装置的功能于一体，当扫描磁铁工作时，加速器辐照装置引出电子束流；当扫描磁铁不工作时，则引出X射线。即可以引出电子束和X射线两种辐照源，以满足不同体积的辐照物品对象的加工要求。利用本发明可以在几乎不增加成本的情况下扩大应用范围，同时提高了系统的安全性能，有利于提高辐照系统的寿命和利用率。 |
