一种三氧化钼溅射靶材、制备方法以及靶材模具
基本信息
| 申请号 | CN202210392190.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114737159A | 公开（公告）日 | 2022-07-12 |
| 申请公布号 | CN114737159A | 申请公布日 | 2022-07-12 |
| 分类号 | C23C14/34（2006.01）I;C04B35/495（2006.01）I;C04B35/622（2006.01）I;C04B35/645（2006.01）I;C04B35/626（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 席莎;崔玉青;周莎;朱琦;杨秦莉;张晓;李晶 | 申请（专利权）人 | 金堆城钼业股份有限公司 |
| 代理机构 | 西安恒泰知识产权代理事务所 | 代理人 | - |
| 地址 | 710065陕西省西安市高新区锦业一路88号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种三氧化钼溅射靶材、制备方法以及靶材模具。该制备方法先以三氧化钼粉末溶液为原料进行喷雾造粒后，制得类球形三氧化钼粉末，再将类球形三氧化钼粉末装填入靶材模具中，依次经过液压压制、热压处理和加工处理后，制得三氧化钼溅射靶材，该三氧化钼溅射靶材的纯度大于99.95％，致密度大于99.5％。本发明的三氧化钼溅射靶材的制备方法，采用喷雾造粒和热压相结合的工艺，配合特制的靶材模具，最终制得的高纯度、高致密度的三氧化钼溅射靶材能够满足实际需求。 |
