一种真空悬浮镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN202110834251.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113403610A | 公开（公告）日 | 2021-09-17 |
| 申请公布号 | CN113403610A | 申请公布日 | 2021-09-17 |
| 分类号 | C23C16/455（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李翔;左敏;胡磊;王荣;赵昂璧;李登辉;黎微明 | 申请（专利权）人 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 孔祥贵 |
| 地址 | 214000江苏省无锡市新吴区新硕路9-6-2 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种真空悬浮镀膜设备，包括外壳、安装于外壳内部的内壳以及放置于内壳内部的工件载具，内壳的封闭端设置有连接抽气系统的抽气接口，内壳的开放端设置有用于工件载具进出的开口，外壳的开放端设置有密封门，密封门内侧安装有盖板，盖板内侧安装有匀流板总成，密封门关闭时盖板封闭开口，匀流板总成由开口伸入内壳，盖板和匀流板总成之间设置有空间间隔，匀流板总成上设置有连通空间间隔和内壳内部空间的气孔，通过多个工艺气体通道连通空间间隔，用于将多种类型的气体输送至空间间隔。使工艺气体成分流动更为均匀，腔体内部的流道短，可以有效防止MO源的凝结，进而设备可以使用的工艺腔体尺寸更大，提升设备可靠性和适用性。 |
