一种ALD设备的喷淋装置
基本信息
| 申请号 | CN202021172322.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214115719U | 公开（公告）日 | 2021-09-03 |
| 申请公布号 | CN214115719U | 申请公布日 | 2021-09-03 |
| 分类号 | C23C16/455（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 方鑫;严大;李翔;龚炳建 | 申请（专利权）人 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 南京知识律师事务所 | 代理人 | 朱少华 |
| 地址 | 214028江苏省无锡市新吴区漓江路11号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种ALD设备的喷淋装置，包括喷淋板和匀流板；所述匀流板上设置有若干匀流片，所述匀流片相互平行等间距布置，所述匀流片与匀流片之间的间隙形成气流的通道；所述匀流板的两侧包括气流流入侧和气流流出侧，所述喷淋板设置于所述匀流板的气流流入侧，并朝匀流板方向喷射处于无序状态的气流，气流经过所述匀流板后由紊流状态变为层流状态。本喷淋装置结构简单，可有效改善真空腔体内喷淋板喷出气流的状态，可以解决现有技术中喷淋装置无法使臭氧与氮气混合均匀导致迎气流边EL发黑的技术问题，它能够保证流经喷淋装置的喷出的混合气体在流经硅片前均匀混合，提升镀膜质量，消除迎气流边EL发黑，提高产品良率。 |
